본 발명은, 처리대상인 원수를 이송하는 원수 이송펌프 ; 관 형태로서 길이방향 일측에 상기 원수 이송펌프로부터 공급되는 원수가 유입되는 원수 유입구가 형성되며 길이방향 타측에 원수가 유출되는 원수 유출구가 형성되는 접지관과, 상기 접지관의 내부 중앙을 따라 배치되며 상기 접지관과 이격 위치되어 상기 접지관과 플라즈마 방전 반응을 일으키는 봉 형태의 방전극과, 상기 접지관과 상기 방전극에 플라즈마 방전 반응을 위한 전원을 인가하는 전원인가부를 포함하여 이루어지는 플라즈마 방전 반응 장치 ; 상기 플라즈마 방전 반응 장치를 지난 원수에 약품을 투입하여 플록을 형성하는 플록 형성조 ; 원수유입관을 통하여 상기 플록 형성조로부터 플록이 형성된 원수가 유입되며 순환수 유입관을 통하여 용존공기 순환수가 유입되어 상기 원수의 플록이 부상되도록 유도하는 보조 부상조 및 상기 보조 부상조에서 부상 유도된 상기 플록을 제거하기 위한 스컴 제거장치가 상부에 마련되며 처리수 배출관을 통하여 상기 원수에서 플록이 제거된 처리수를 배출하는 주 부상조를 포함하여 이루어지는 가압부상조 ; 상기 처리수 배출관으로 배출되는 처리수 중 일부를 순환수로서 순환시키기 위하여 마련되는 가압 펌프 ; 압축공기를 공급하는 공기 압축기 ; 상기 가압펌프로부터 공급되는 순환수에 상기 공기 압축기로부터 공급되는 압축공기를 혼합시켜 상기 순환수에 공기를 용해시킨 용존공기 순환수를 생성하기 위하여, 양측에 커버가 마련되어 밀폐된 가압튜브와, 상기 공기 압축기로부터 압축공기를 공급받아 상기 가압튜브의 내부에 미세기포를 공급하도록 상기 가압튜브의 길이방향 중앙부에 마련되는 미세기포 공급기와, 상기 가압튜브의 일측에 마련되어 순환수가 상기 가압튜브 내부로 유입되는 가압튜브용 순환수 유입관과, 상기 가압튜브의 타측에 마련되어 용존공기 순환수가 상기 가압튜브 외부로 유출되는 순환수 유출관과, 상기 가압튜브용 순환수 유입관의 상기 가압튜브 내부 끝단에 마련되되 와류 형성을 위하여 노즐공이 측면을 향하여 형성되는 와류 형성용 노즐을 포함하여 이루어지는 용존공기 순환수 생성기 ; 상기 용존공기 순환수 생성기로부터 공급되는 용존공기 순환수를 상기 순환수 유입관으로 이송하는 순환수 배출관 ; 상기 순환수 유입관으로 유입된 용존공기 순환수를 상기 보조 부상조에 분배하기 위하여 상기 보조 부상조 내부에 수평상으로 길게 마련되는 순환수 분배관 ; 상기 순환수 분배관의 길이 방향을 따라 간격을 두고 마련되어 상기 순환수 분배관의 용존공기 순환수가 상기 보조 부상조로 분사되게 마련되는 복수의 분사노즐 ; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

 

처리대상인 원수를 이송하는 원수 이송펌프 ; 관 형태로서 길이방향 일측에 상기 원수 이송펌프로부터 공급되는 원수가 유입되는 원수 유입구가 형성되며 길이방향 타측에 원수가 유출되는 원수 유출구가 형성되는 접지관과, 상기 접지관의 내부 중앙을 따라 배치되며 상기 접지관과 이격 위치되어 상기 접지관과 플라즈마 방전 반응을 일으키는 봉 형태의 방전극과, 상기 접지관과 상기 방전극에 플라즈마 방전 반응을 위한 전원을 인가하는 전원인가부를 포함하여 이루어지는 플라즈마 방전 반응 장치 ; 상기 플라즈마 방전 반응 장치를 지난 원수에 약품을 투입하여 플록을 형성하는 플록 형성조 ; 원수유입관을 통하여 상기 플록 형성조로부터 플록이 형성된 원수가 유입되며 순환수 유입관을 통하여 용존공기 순환수가 유입되어 상기 원수의 플록이 부상되도록 유도하는 보조 부상조 및 상기 보조 부상조에서 부상 유도된 상기 플록을 제거하기 위한 스컴 제거장치가 상부에 마련되며 처리수 배출관을 통하여 상기 원수에서 플록이 제거된 처리수를 배출하는 주 부상조를 포함하여 이루어지는 가압부상조 ; 상기 처리수 배출관으로 배출되는 처리수 중 일부를 순환수로서 순환시키기 위하여 마련되는 가압 펌프 ; 압축공기를 공급하는 공기 압축기 ; 상기 가압펌프로부터 공급되는 순환수에 상기 공기 압축기로부터 공급되는 압축공기를 혼합시켜 상기 순환수에 공기를 용해시킨 용존공기 순환수를 생성하기 위하여, 양측에 커버가 마련되어 밀폐된 가압튜브와, 상기 공기 압축기로부터 압축공기를 공급받아 상기 가압튜브의 내부에 미세기포를 공급하도록 상기 가압튜브의 길이방향 중앙부에 마련되는 미세기포 공급기와, 상기 가압튜브의 일측에 마련되어 순환수가 상기 가압튜브 내부로 유입되는 가압튜브용 순환수 유입관과, 상기 가압튜브의 타측에 마련되어 용존공기 순환수가 상기 가압튜브 외부로 유출되는 순환수 유출관과, 상기 가압튜브용 순환수 유입관의 상기 가압튜브 내부 끝단에 마련되되 와류 형성을 위하여 노즐공이 측면을 향하여 형성되는 와류 형성용 노즐을 포함하여 이루어지는 용존공기 순환수 생성기 ; 상기 용존공기 순환수 생성기로부터 공급되는 용존공기 순환수를 상기 순환수 유입관으로 이송하는 순환수 배출관 ; 상기 순환수 유입관으로 유입된 용존공기 순환수를 상기 보조 부상조에 분배하기 위하여 상기 보조 부상조 내부에 수평상으로 길게 마련되는 순환수 분배관 ; 상기 순환수 분배관의 길이 방향을 따라 간격을 두고 마련되어 상기 순환수 분배관의 용존공기 순환수가 상기 보조 부상조로 분사되게 마련되는 복수의 분사노즐 ; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 방전 반응 장치와 가압부상조를 이용한 수처리 시스템.

 

[출처 : 특허청 특허정보서비스(www.kipris.or.kr)]